| 摘要 |
본 발명은 대향 타겟식 스퍼터링 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명의 일 측면에 따른 대향 타겟식 스퍼터링 장치는, 소정의 공간을 에워싸는 타겟면과 타겟면의 후면에 배치된 자기장 발생유닛을 포함하는 제 1 스퍼터링부, 제 1 스퍼터링부의 하부에 배치되고, 소정의 공간을 에워싸는 타겟면과 타겟면의 후면에 배치된 자기장 발생유닛을 포함하는 제 2 스퍼터링부, 및 제 1 스터퍼링부의 상부에 형성된 개구부를 덮도록 배치된 덮개부를 포함하되, 제 1 스퍼터링부의 타겟면과 제 2 스퍼터링부의 타겟면의 소스물질이 상이한 것이다. |
