发明名称 用于充填一高炉之装置(一)
摘要 一种用于充填轴式熔炉之装置(一),其包括一分配斜槽和一设于二容器上方之投入口,并设有密封阀和一个测量元件。为了简化该测量系统,从静力的观点而言,该投入口与熔炉之嘴部为独立状态,在于其系位于一设在一架体或一熔炉上之封密室之内,及在于其为使用一机构加以悬吊,使其可连设于已放空的容器上,或从已充满的容器上脱离。
申请公布号 TW175119 申请公布日期 1991.12.11
申请号 TW080212088 申请日期 1987.04.07
申请人 保罗伍斯股份有限公司 发明人 利吉雷.爱德华;斯吉尔吉.泽门;罗纳第.爱美瑞
分类号 C21C7/18 主分类号 C21C7/18
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种用于充填-高炉之装置(一),包括一旋转式或振动式的分配斜槽,该斜槽上部设有一带有中心导流管之漏斗,该导流管受一测量元件所控制,以对称于中心轴0 作动,而其上部设有两个提供有上部及下部密封阀之容器以及一测量元件,以便调节流向该漏斗之充填物质之流向,其特征在于:从静力的观点来看,该漏斗与高炉之嘴部为独立状态;该漏斗系位在一设于一架体或一高炉上之封密室之内;以及该漏斗系由一机构加以悬吊,该机构使其可连设于已放空的容器上,并自已充满的容器上脱离。2.如申请专利范围第 1 项所述之用于充填一高炉之装置(一),其中该用以悬吊漏斗之机构,系包括:一第一柱体,其为轴向安设于漏斗之上方,该第一柱体之底部端藉一第一交又块连接于漏斗之顶部 及一与第一柱体相独立的第二柱体,其为中空状,并为同轴装设环绕于第一柱体之外部,该第二柱体之底端藉一第二交叉块连设于漏斗之顶部,此二柱体在其顶端部分分别固定于一第一及一第二液压筒上,此二液压筒则分别相对连接于两容器其中之一者。3.如申请专利范围第 1 项或第 2 项所述之用于充填一高炉之装置(一),其中该漏斗系藉由数水平稳定板而连接于该封闭室。4.如申请专利范围第 1 项或第 2 项中所述之用于充填一高炉之装置(一),其中:该具有对称性动作之测量元件以及其驱动机构,均连设于漏斗上;以及该测量元件系于一挠性接点位置区域,穿过封闭室之壁面,而连接至其驱动机构上。图示简单说明:图一系依据本创作之装置之部份垂直剖面视图;图二系相对于图一所示投入口旋转90度之轴向垂直剖视图;和图三及图四系悬吊投入口之系统详图,分别显示投入口连设于每一个容器的部份。
地址 卢森堡