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1.一种制造如下化学式化合物之产制方法:其中X和 Y各别 为氢,氯或氟;R1和R2各别为氢,氘或氚;及Z系为氧或 硫,其系包括一种如下化学式化合物之还原去卤素 反应, 其中R3和R4各别为氢,溴或碘,在R3和R4至少其中之一 为 溴或碘之条件下,于一含有三(低级)烷基胺1—3倍 莫耳过 量(依据式(Ⅰ)之反应物)之反应钝性溶液中,使用 氢,氘 或氚气以及一种Pd/BaSO4之触媒,其中R1是氘,R2是氚 或氢,且当R1是氚时,R2是氚或氢。2.如申请专利范 围第1项之方法,其中该还原去卤素反应 系在一大气压和室温下进行,且其酸之受体是三乙 胺。3.如申请专利范围第2项之方法,其中X是氯且Y 是氢,以 及R3及R4皆为溴。4.如申请专利范围第2项之方法, 其中X是氟,Y是氯,且 |
