发明名称 降解性聚合物组成物
摘要 本发明系关于光降解性聚合物组成物,包括低压合成制造的聚烯烃,含乙烯、一氧化碳、和视需要之另一聚合性成份的共聚物,以及原子序数为22-58之元素的少量羧酸。聚合物组成物含0.5-5%重量的一氧化碳。含一氧化碳的共聚物和羧酸二者存在下,可改进所得组成物的降解性。
申请公布号 TW178618 申请公布日期 1992.02.11
申请号 TW079103485 申请日期 1990.04.28
申请人 霍奇史特公司 发明人 约翰哈比斯;渥夫给培尔
分类号 C08K5/09;C08L23/02;C08L73/00 主分类号 C08K5/09
代理机构 代理人 陈嗣庆 台北巿民权东路三段一四四号一五二六室
主权项 1.一种光降解性聚合物组成物,包括(a)低压合成制 造之 聚烯烃,和(b)含乙烯、一氧化碳、和视需要之又一 聚合 性成份之共聚物,其量使聚合物组成物含0.5-5%重量 一 氧化碳,以及(c)选自铈、铁和钴之一元素的羧酸盐 10- 150ppm者。2.如申请专利范围第1项之聚合物组成物, 包括75-95%重 量聚烯烃,和5-25%重量含一氧化碳之基聚物者。3. 如申请专利范围第1项之聚合物组成物,其中,聚烯 烃 为高密度聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚异丁烯、 或聚(4- 甲基-1-戊烯)者。4.如申请专利范围第1项之聚合物 组成物,其中,含一氧 化碳之基聚物,包括60-96%份重量乙烯,5-20份重量一 氧化碳,和视需要之1-18份重量又一单体者。5.如申 请专利范围第1项之聚合物组成物,其中,该羧酸 盐系选自包含羧酸铈、铁和钴盐者。6.一种如申 请专利范围第1项之聚合物组成物的制法,包 括将聚烯烃、含一氧化碳之共聚物、以及羧酸盐 混合,并 加温至融化,再视需要将混合物压出者。
地址 德国