发明名称 |
Evaluation method for estimating damage of deposited substrate using spectroscopic ellipsometry and hall effect |
摘要 |
본 발명은 기판의 손상 특성 평가 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 저 손상 증착법에 의해 증착된 기판의 손상 특성을 타원 분광 측정법 및 홀 효과 측정법을 이용하여 정밀하게 평가할 수 있는 기판의 손상 특성 평가 방법에 관한 것이다. |
申请公布号 |
KR20160128650(A) |
申请公布日期 |
2016.11.08 |
申请号 |
KR20150060352 |
申请日期 |
2015.04.29 |
申请人 |
SNTEK CO., LTD. |
发明人 |
KIM, BOO KYOUNG;BAEK, JU YEOUL;CHOI, SANG DAE;PARK, SEONG KEE;AN, KYOUNG JOON |
分类号 |
G01N21/21;G01N21/41;G01N21/59;G01N27/82;H01L21/02 |
主分类号 |
G01N21/21 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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