发明名称 |
SPUTTERING DEVICE INTEGRATED WITH ION SOURCE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH0525622(A) |
申请公布日期 |
1993.02.02 |
申请号 |
JP19910178116 |
申请日期 |
1991.07.18 |
申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
YANAGI KENICHI;KATO MITSUO;TSURUSAKI KAZUYA;TAGUCHI TOSHIO;SHINYA KENJI |
分类号 |
C23C14/22;C23C14/34;C23C14/48;H01J37/34 |
主分类号 |
C23C14/22 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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