| 主权项 |
1﹒一种下式之消旋或光学活性全氢─1H─ 啶并[1,2─a] 或其药学上可接受之酸加成盐,式中 L及X个别表示,其中X为H或C1至 C2烷基且L为R(CH2)mCO,或L及X共同 表示 R为C1至C6烷基,C3至C7环烷基,苯 基,基,喃基,苯并喃基,嗯基 ,苯并嗯基,咯基,基,异 基,原冰片甲基,或该基之方族环或杂芳 环经F,Cl,C1至C2烷基或C1至C2烷氧 基取代者之一; R1,R2及R3各为H或甲基; R4为苯基或经F,Cl,C1至C2烷 基或C1─C2烷氧基取代之苯基; X1为CH或N; Y为0或S; Y1为CH2,S,O或NH; Y2及Y3个别表示且各示H或甲基或 Y2及Y3共示(CH2)1; 2为H或CQ; m为0,1,2或3; n为1,2,3或4; p为1或2; q为2,3,4或5; r为0或1; s为0或1;且 ────表示键结或无键结。 2﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中 L─N─(CH2)n─基附于啶并环 系之7─位置。 3﹒如申请专利范围第2项之化合物,其中 Y为0;且 Z为H。 4﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中X 为H。 5﹒如申请专利范围第4项之化合物,其中 啶并环系之7─位置取代之氢对9a─ 氢为反式。 6﹒如申请专利范围第5项之化合物,其中: R为C3至C7环烷基或苯基;且 m为0或1。 7﹒如申请专利范围第6项之化合物,其中: n为2;且 R为环戊基,环己基或环庚基。 8﹒如申请专利范围第4项之化合物,其中 啶并环系之7─位置取代之氢对9a─ 氢为顺式。 9﹒如申请专利范围第8项之化合物,其中: m为0或1; n为2;且 R为C3至C6环烷基或苯基。 10﹒如申请专利范围第9项之化合物,其中 m为1;且 R为环戊基。 11﹒如申请专利范围第9项之化合物,其中 m为0;且 R为环内基,环丁基,环戊基,环己基或 苯基。 12﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中 L及X共示 13﹒如申请专利范围第12项之化合物,其中 啶并环系之7─位置取代氢对9a─ 氢为反式。 14﹒如申请专利范围第13项之化合物,其中 n为1或2; p及r各为1; Y1为CH2;且 Y2及Y3共同表示(CH2)q,其中q为2 ,3,4或5。 15﹒如申请专利范围第14项之化合物,其中 n为1;且 q为4。 16﹒如申请专利范围第14项之化合物,其中 n为2;且 q为3或4。 17﹒如申请专利范围第12项之化合物,其中 啶并环系之7─位置取代氢对9a─ 氢为顺式。 18﹒如申请专利范围第17项之化合物,其中 n及p各为2; r为0;A Y2及Y3各为甲基。 19﹒如申请专利范围第3项之化合物,其中 L及X共示 20﹒如申请专利范围第19项之化合物,其中 ────示无键结;且 R1,R2及R3各为H。 21﹒如申请专利范围第20项之化合物,其中 n为2;且 啶并环系之7─位置取代基对9a─ 氢为反式。 22﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中 L─N─(CH2)n─基附于啶并环 之8─位置且对于9a─氢为反式; Z为H;且 Y为0。 33﹒如申请专利范围第22项之化合物,其中 X为H。 24﹒如申请专利范围第22项之化合物,其中 L及X共示 25﹒如申请专利范围第24项之化合物,其中 n为2; p及r各为1; q为4; Y1为CH2;且 Y3及Y3共同表示。 26﹒如申请专利范围第1项之化合物,其为 光学活性。 27﹒如申请专利范围第26项之化合物,其中 具7S,9aS立体化学。 28﹒一种用于舒解神经紧张之医药组合物, 其系包含有效量之如申请专利范围第1项 之化合物及药学上可接受之载体。 29﹒一种下式之消旋或光学活性全氢─1H一 啶并[1,2─a] 式中: Y为0或S; Z为H或Cl; Z1为NHX,OH,OSO2R5,N3,CN或 R5为C1至C3烷基,苯基或甲苯基; X为H或C1至C2烷基; Y2及Y3各示H或甲基,或Y2及 Y3共同表示(CH2)q; n为1,2,3或4; p为1或2; q为2,3,4或5;且 r为0或0; 惟当Z1为CN时,n不为4。 30﹒如申请专利范围第29项之化合物,其中 Y为0且Z为H。 31﹒如申请专利范围第30项之化合物,其中 n为2;且 啶并环系之7─位置上被Z1─ (CH2)n─取代基所取代。 32﹒如申请专利范围第31项之化合物,其中 Z1为NH2或 33﹒如申请专利范围第32项之化合物,其中 Z1为NH2;且 在7一位置取代之氢对9a─氢为反式。 34﹒如申请专利范围第32项之化合物,其中 Z1为 Y2为Y3共同表示; p及r各为1;且 q为3或4。 35﹒如申请专利范围第33或34项之化合物, 其为光学活性。 36﹒如申请专利范围第35项之化合物,其具 7S,9aS立体化学。 37﹒一种具以下相对立体化学式之化合物, 式中: 在第一代替体中,B为C1至C3烷氧羰 基且X1为C=0;或 在第二代替体中,B为HOCH2且X1 为CH2。 38﹒一种如下式之化合物, 式中第一代替体中: A为H或可催化氢化移除之胺保护基 B1为L─N─(CH2)n─; L及X个别表示,其中X为H或C1至 C2烷基且L为R(CH2)mCO,或L及X共 R为C1至C6烷基,C3至C7环烷基,苯 基,基,喃基,苯并喃基,嗯基 ,苯并嗯基,咯基,基,异 基,原冰片甲基,或该基在芳族环或杂芳 族环上经F,Cl,C1至C2烷基或C1至C2 烷氧基取代者之一; R1,R2及R3各为H或甲基; R4为苯基或经F,Cl,C1至C2烷 基或C1至C2烷氧基取代之苯基; X1为CH或N; Y2为CH2,S,O或NH; Y2及Y3各为H或甲基或Y2及Y3共 示(CH2)q; m为0,1,2或3; n为1,2,3或4; p为1或2; q为2,3,4或5; r为0或1; s为0或1;且 ───示键结或无键结;或 在第二代替物中: A为可催化氢化移除之胺保护基; B1为Z1─(CH2)n─; Z1为NH2,OH,OSO2R5,N3,CN或 R5为C1至C3烷基,苯基或甲苯基; Y1为CH2,S,O或NH; Y2及Y3各为H或甲基或Y2及Y3共 同表示(CH2)q; n为1,2,3或4; p为1或2; q为2,3,4或5;且 r为0或1; 惟当Z1为CN时,n不为4。 39﹒一种具下列相对立体化学式之化合物, 式中各R6各为C1至C3烷基。 40﹒一种制备如下式全氢─1H─啶并[1 ,2─a]之消旋或光学活性化合物 之方法, 式中: L及X个别表示,其中X为H或C1至 C2烷基且L为R(CH2)mCO,或L及X共 同表示 H为C1至C6烷基,C3至C7环烷基,苯 基,基,喃基,苯并喃基,嗯基 ,苯并嗯基,咯基,基,异 基,原冰片甲基,或该基之芳族环或杂芳 环经F,Cl,C1至C2烷基或C1至C2烷氧 基取代者之一; R1,R2及R3各为H或甲基; R4为苯基或经F,Cl,C1至C2烷 基或C1─C2烷氧基取代之苯基; X1为CH或N; Y为0或S; Y1为CH2,S,O或NH; Y2及Y3个别表示且各示H或甲基或 Y2及Y3共示(CH2)q; Z为H或Cl; m为0,1,2或3; n为1,2,3或4; p为1或2; q为2,3,4或5; r为0或1; s为0或1;且 ───表示键结或无键结,此方法包括: (a)当L及X个别表示时,令下式化 合物 式中X,Y及n如上定义,与如式R(CH2)m COOH,式中R及m如上定义,所示之化 合物的活化形式反惟而予以醯化; (b)当L及X共同表示时,令下式化合物 式中Y及n如上定义且D为亲核性可取代 基,在反应惰性溶剂中,与(i)当L及X 共同形成醯亚胺或环状磺醯胺时,其阴离 子性衍生物,或(ii)当L及X共示简单 啶衍生物时,其自由胺型反应;或 (c)在亲核性取代条件下,令下式化 合物 式中Y及Z如上定义。 41﹒如申请专利范围第40之方法,其中: 当使用反应(a)时,该活化型为酸氯 化物,酸酐或混合酐; 当使用反应(b)时,D为氯,溴或甲 磺醯氧基;或 当使用反应(c)时,该条件包括在极 性,反应惰性溶剂中反应。 |
