发明名称 MANUFACTURE OF SILICON OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH05226328(A) 申请公布日期 1993.09.03
申请号 JP19920075116 申请日期 1992.02.13
申请人 KOJUNDO CHEM LAB CO LTD 发明人 HOCHIDO YUKO;FUTAKI TAKEHIKO
分类号 C23C16/40;H01L21/205;H01L21/316 主分类号 C23C16/40
代理机构 代理人
主权项
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