发明名称 |
MANUFACTURE OF SILICON OXIDE FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH05226328(A) |
申请公布日期 |
1993.09.03 |
申请号 |
JP19920075116 |
申请日期 |
1992.02.13 |
申请人 |
KOJUNDO CHEM LAB CO LTD |
发明人 |
HOCHIDO YUKO;FUTAKI TAKEHIKO |
分类号 |
C23C16/40;H01L21/205;H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/40 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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