| 摘要 |
Vorrichtung zur Kathodenzerstäubung für die Herstellung dünner Schichten auf einem Substrat (13) mittels eines Plasmas in einer Vakuumprozeßkammer (11), im wesentlichen bestehend aus Magneten, Polschuhen, einer Anode, einem als Kathode ausgebildeten Target aus dem zu zerstäubenden Werkstoff und einer Blendenanordnung, wobei a) die dem Substrat (13) zugewandte, zu zerstäubende Vorderseite des Targets (16) im wesentlichen dachförmig verläuft und die Dachflächen symmetrisch zur Achse A-A des Targets ausgeführt sind, daß die Dachform durch mindestens zwei oder mehr Ebenen gebildet wird und die Senkrechten, die auf den Vorderseiten der beiden längsten Ebenen erzeugbar sind, ihren gemeinsamen Schnittpunkt vor dem Target (16) haben, b) nur ein Magnetsatz (2) mit Polschuhen (1a,4) verwendet wird, c) die dem Substrat(13) zugewandten Stirnseiten (1b,4a) der Polschuhe (1a,4) mit einer Schräge versehen sind. <IMAGE>
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