| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND PRODUCTION OF PLATING RESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0627661(A) |
申请公布日期 |
1994.02.04 |
| 申请号 |
JP19920186720 |
申请日期 |
1992.07.14 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD;HITACHI LTD |
发明人 |
TSUCHIKAWA SHINJI;OTA FUMIHIKO;NAKANO AKIO;NOJIRI TAKESHI;ISHIMARU TOSHIAKI;KAWAMOTO MINEO;TAKAHASHI AKIO;AKABOSHI HARUO |
| 分类号 |
C08F2/50;C08F2/48;C08F290/00;C08F299/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/033;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/027 |
主分类号 |
C08F2/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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