发明名称 |
基板处理装置及基板处理方法 |
摘要 |
本发明的基板处理装置,将基板搬送于第1方向并对基板的被处理面进行处理,具备:将基板引导于第1方向的第1引导构件,与第1引导构件分离配置、用以引导被第1引导构件引导的基板的第2引导构件,在第1引导构件与第2引导构件之间对基板赋予张力以使基板在与第1方向交叉的第2方向的尺寸缩小的张力赋予机构,以及在第1引导构件与第2引导构件之间对基板的被处理面进行处理的处理装置。 |
申请公布号 |
CN103958379B |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201280053802.8 |
申请日期 |
2012.09.27 |
申请人 |
株式会社 尼康 |
发明人 |
堀正和;奈良圭;横田宗泰 |
分类号 |
B65H23/192(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I |
主分类号 |
B65H23/192(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
董惠石 |
主权项 |
一种基板处理装置,将基板搬送于第1方向并对所述基板的被处理面进行处理,具备:第1引导构件,将所述基板引导于所述第1方向;第2引导构件,与所述第1引导构件分离配置,用以引导被所述第1引导构件引导的所述基板;张力赋予机构,在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间,以获得所述基板的尺寸在与所述第1方向交叉的第2方向以既定比率收缩的第1部分、与收缩比率有所变化的第2部分的方式,对所述基板赋予所述第1方向的张力;以及处理装置,在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间,于对应所述第1部分与所述第2部分的任一者的所述基板的被处理面形成图案。 |
地址 |
日本东京都 |