发明名称 基板处理装置及基板处理方法
摘要 本发明的基板处理装置,将基板搬送于第1方向并对基板的被处理面进行处理,具备:将基板引导于第1方向的第1引导构件,与第1引导构件分离配置、用以引导被第1引导构件引导的基板的第2引导构件,在第1引导构件与第2引导构件之间对基板赋予张力以使基板在与第1方向交叉的第2方向的尺寸缩小的张力赋予机构,以及在第1引导构件与第2引导构件之间对基板的被处理面进行处理的处理装置。
申请公布号 CN103958379B 申请公布日期 2016.12.28
申请号 CN201280053802.8 申请日期 2012.09.27
申请人 株式会社 尼康 发明人 堀正和;奈良圭;横田宗泰
分类号 B65H23/192(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I 主分类号 B65H23/192(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 董惠石
主权项 一种基板处理装置,将基板搬送于第1方向并对所述基板的被处理面进行处理,具备:第1引导构件,将所述基板引导于所述第1方向;第2引导构件,与所述第1引导构件分离配置,用以引导被所述第1引导构件引导的所述基板;张力赋予机构,在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间,以获得所述基板的尺寸在与所述第1方向交叉的第2方向以既定比率收缩的第1部分、与收缩比率有所变化的第2部分的方式,对所述基板赋予所述第1方向的张力;以及处理装置,在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间,于对应所述第1部分与所述第2部分的任一者的所述基板的被处理面形成图案。
地址 日本东京都
您可能感兴趣的专利