一种真空镀膜装置

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括装置本体、镀膜区、缓冲区和加热区，装置本体内部为镀膜区，装置本体底部设有缓冲区；缓冲区底部设有加热区，加热区内部设有振荡板，振荡板侧壁上缠绕连接有电磁线圈；加热区外部侧壁上固定连接有控制器；缓冲区顶部设有喷头；装置顶部固定设有气缸，装置本体内部横向设有滑板；滑板下表面固定有基板，滑板两侧固定连接有进气管和出气管；装置本体内壁上位于基板底部设有位置传感器，位置传感器和气缸与控制器电性连接；装置本体顶部左侧设有真空口。基板镀膜时无需人工控制镀膜时间，节省了人力，且该装置镀膜质量较好，镀膜质地均匀，厚度一致，具有较好的应用前景。

主权项

一种真空镀膜装置，包括装置本体(1)、镀膜区(2)、缓冲区(3)和加热区(4)，其特征在于，所述装置本体(1)内部为镀膜区(2)，装置本体(1)底部设有缓冲区(3)；所述缓冲区(3)底部设有加热区(4)，加热区(4)内部设有振荡板(5)，振荡板(5)侧壁上缠绕连接有电磁线圈(6)；所述加热区(4)外部侧壁上固定连接有控制器(7)；所述缓冲区(3)顶部设有喷头(8)；所述装置顶部固定设有气缸(13)，装置本体(1)内部横向设有滑板(10)，滑板(10)与装置本体(1)内壁滑动连接，滑板(10)与气缸(13)通过伸缩杆(14)连接；所述滑板(10)下表面固定有基板(11)，滑板(10)为中空结构，滑板(10)两侧固定连接有进气管(15)和出气管(16)；所述进气管(15)与出气管(16)采用弹性材质制成；所述装置本体(1)内壁上位于基板(11)底部设有位置传感器(12)，位置传感器(12)和气缸(13)与控制器(7)电性连接；所述装置本体(1)顶部左侧设有真空口(17)。