发明名称 | 用于光学邻近修正修复的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种用于光学邻近修正修复的方法,所述方法包括:选择包含问题图案的特定图案;对整个芯片进行扫描以定位与所述特定图案相匹配的特定区域;以及在所述特定区域内对问题图案的问题边缘进行不同于所述问题图案的其他边缘的站点分配,以进行基于站点的边缘放置误差控制。本发明所提供的用于光学邻近修正修复的方法基于图案匹配进行站点分配,使得基于站点的边缘放置误差控制可以在考虑坏点的环境的情况下进行,从而可以获得最佳站点分配方案,实现高效的光学邻近修正修复。 | ||
申请公布号 | CN106257330A | 申请公布日期 | 2016.12.28 |
申请号 | CN201510345788.4 | 申请日期 | 2015.06.18 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 杜杳隽 |
分类号 | G03F1/36(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/36(2012.01)I |
代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 董巍;高伟 |
主权项 | 一种用于光学邻近修正修复的方法,其特征在于,所述方法包括:选择包含问题图案的特定图案;对整个芯片进行扫描以定位与所述特定图案相匹配的特定区域;以及在所述特定区域内对问题图案的问题边缘进行不同于所述问题图案的其他边缘的站点分配,以进行基于站点的边缘放置误差控制。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |