发明名称 VACUUM DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITED FILM AND ORGANIC ELECTRONIC DEVICE
摘要 본 발명은, 증착 중의 열 변형을 방지하여 고정밀도로 원하는 패턴으로 성막 가능한 진공 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 증착실(1)에, 마스크를 통해 기판에 증착을 행하는 증발원(2)과, 증착을 행할 때에 상기 증발원(2)을 상기 기판에 대하여 상대적으로 이동시키는 증발원 이동 기구 또는 증착을 행할 때에 상기 기판을 상기 증발원에 대하여 상대적으로 이동시키는 기판 이동 기구를 설치한 진공 증착 장치로서, 상기 기판에 대한 증착을 시작하기 전에, 상기 증발원(2)을 이용하여 상기 마스크의 사전 가열을 행하도록 상기 증발원 이동 기구 또는 상기 기판 이동 기구를 구성한다.
申请公布号 KR20160150034(A) 申请公布日期 2016.12.28
申请号 KR20160075172 申请日期 2016.06.16
申请人 캐논 톡키 가부시키가이샤 发明人 미사와 게이타;고토 료타;가자마 요시아키;시메키 히로카즈
分类号 H01L51/56;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56;H01L51/00 主分类号 H01L51/56
代理机构 代理人
主权项
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