发明名称 | 用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器。该自适应X射线滤波器(1)包括吸收X射线辐射(2)的第一液体(15)(例如Galinstan合金),和可电致变形的调节元件(17),该调节元件(17)通过至少部分地挤压第一液体(15)而在各调节元件(17)的位置处改变第一液体(15)的层厚度。本发明所提供的优点是通过自适应X射线滤波器(1)可简单、精确且快速地调制X射线辐射(2)的辐射场。 | ||
申请公布号 | CN103456383B | 申请公布日期 | 2016.12.28 |
申请号 | CN201310213657.1 | 申请日期 | 2013.05.31 |
申请人 | 西门子公司 | 发明人 | H.利格尔;R.F.舒尔茨 |
分类号 | G21K3/00(2006.01)I | 主分类号 | G21K3/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 任宇 |
主权项 | 一种用于改变X射线辐射(2)的局部强度的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:‑吸收X射线辐射(2)的第一液体(15),和‑可电致变形的调节元件(17),所述调节元件(17)通过至少部分地挤压第一液体(15)而在各调节元件(17)的位置处改变第一液体(15)的层厚度,其中‑对于X射线辐射(2)透明的柔性薄膜(10),所述柔性薄膜(10)将第一液体(15)与调节元件(17)隔离,‑其中所述薄膜(10)可由调节元件(17)移动。 | ||
地址 | 德国慕尼黑 |