发明名称 |
半导体器件 |
摘要 |
一种半导体器件,包括:半导体衬底;位于半导体衬底表面的接地环;位于半导体衬底表面的接地屏蔽结构,所述接地环包围所述接地屏蔽结构,所述接地屏蔽结构包括若干同心导电环、以及沿所述导电环的半径方向贯穿若干导电环的导电线,且所述导电线和接地环电连接,所述若干导电环均具有若干开口,且相邻导电环的开口交错设置;位于所述半导体衬底、接地环和接地屏蔽结构表面的介质层,所述介质层包围所述接地环和接地屏蔽结构;位于介质层表面的半导体器件。本发明的半导体器件能够提高屏蔽能力、减少衬底损耗,提高半导体器件性能。 |
申请公布号 |
CN104103630B |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201310113669.7 |
申请日期 |
2013.04.02 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
程仁豪;王西宁;刘凌 |
分类号 |
H01L23/552(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I;H01L23/64(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/552(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;位于半导体衬底表面的接地环;位于半导体衬底表面的接地屏蔽结构,所述接地环包围所述接地屏蔽结构,所述接地屏蔽结构包括若干同心导电环、以及沿所述导电环的半径方向贯穿若干导电环的导电线,且所述导电线和接地环电连接,所述若干导电环均具有若干开口,且相邻导电环的开口交错设置;位于所述半导体衬底、接地环和接地屏蔽结构表面的介质层,所述介质层包围所述接地环和接地屏蔽结构;位于介质层表面的半导体器件。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |