发明名称 半导体器件
摘要 一种半导体器件,包括:半导体衬底;位于半导体衬底表面的接地环;位于半导体衬底表面的接地屏蔽结构,所述接地环包围所述接地屏蔽结构,所述接地屏蔽结构包括若干同心导电环、以及沿所述导电环的半径方向贯穿若干导电环的导电线,且所述导电线和接地环电连接,所述若干导电环均具有若干开口,且相邻导电环的开口交错设置;位于所述半导体衬底、接地环和接地屏蔽结构表面的介质层,所述介质层包围所述接地环和接地屏蔽结构;位于介质层表面的半导体器件。本发明的半导体器件能够提高屏蔽能力、减少衬底损耗,提高半导体器件性能。
申请公布号 CN104103630B 申请公布日期 2016.12.28
申请号 CN201310113669.7 申请日期 2013.04.02
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 程仁豪;王西宁;刘凌
分类号 H01L23/552(2006.01)I;H01L23/58(2006.01)I;H01L23/64(2006.01)I 主分类号 H01L23/552(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种半导体器件,其特征在于,包括:半导体衬底;位于半导体衬底表面的接地环;位于半导体衬底表面的接地屏蔽结构,所述接地环包围所述接地屏蔽结构,所述接地屏蔽结构包括若干同心导电环、以及沿所述导电环的半径方向贯穿若干导电环的导电线,且所述导电线和接地环电连接,所述若干导电环均具有若干开口,且相邻导电环的开口交错设置;位于所述半导体衬底、接地环和接地屏蔽结构表面的介质层,所述介质层包围所述接地环和接地屏蔽结构;位于介质层表面的半导体器件。
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