发明名称 |
一种碳化硅外延生长系统 |
摘要 |
本实用新型提供一种碳化硅外延生长系统。本实用新型提供的外延系统可进行慢速生长、快速生长、N型掺杂、P型掺杂、单层外延生长、多层外延生长、薄膜外延层生长、厚膜外延层生长、选择性刻蚀等多种功能性的碳化硅外延生长;该系统可依据外延结构要求选择生长模式,生长适合的外延材料。本实用新型提供的技术方案生长的外延材料质量更优,缺陷更少,更适合应用于高电压电力电子器件中;其适合范围广、生长方法简单、加工成本低,适合工业化生产。 |
申请公布号 |
CN205845906U |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201620356478.2 |
申请日期 |
2016.04.25 |
申请人 |
全球能源互联网研究院;国家电网公司;国网上海市电力公司 |
发明人 |
钮应喜;杨霏;温家良;潘艳;王嘉铭;李永平;田亮;吴昊;李玲;查祎英;郑柳;夏经华;桑玲;刘瑞;张文婷;李嘉琳 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
北京安博达知识产权代理有限公司 11271 |
代理人 |
徐国文 |
主权项 |
一种碳化硅外延生长系统,包括反应腔体(1)及与其连接的尾气处理系统,其特征在于,与所述反应腔体(1)连接的源气控制供应系统包括慢速生长单元、快速生长单元、N型掺杂单元、P型掺杂单元、单层外延生长单元、多层外延生长单元、薄膜外延层生长单元、厚膜外延层生长单元和选择性刻蚀单元。 |
地址 |
102209 北京市昌平区未来科技城北区国网智能电网研究院院内 |