SUBSTRATE PROCESSING APPRATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

摘要

약액을 프리디스펜스 위치에서 포트를 향하여 처리액 토출구에 토출시키면서, 포트에 공급된 약액의 온도를 검출한다. 약액의 온도는, 시간의 경과에 수반하여 상승된다. 포트에 공급된 약액의 온도가 제 2 목표 온도에 도달하면, 처리액 토출구에 약액의 토출을 정지시킨다. 그 후, 처리액 토출구 및 포트의 위치 관계를 변경하여, 처리 위치에서 기판을 향하여 처리액 토출구에 약액을 토출시킨다.