基板処理装置

摘要

本発明の一実施形態による基板処理装置は，一側に形成された通路を介して基板が移送され，上部及び下部の開放されたチャンバ本体と，前記チャンバ本体の上部に設置されて，前記基板に対する工程が行われる工程空間を提供し，下部の開放された形状を有する内部反応チューブと，前記チャンバの開放された下部に配置されて，前記通路を介して移送された前記基板を上下方向に沿って積載する積載位置及び前記工程空間に向かって上昇して積載された前記基板に対する工程が行われる工程位置に転換可能である基板ホルダーと，前記基板ホルダーの下部に連結されて，前記基板ホルダーと共に昇降し，前記工程位置で前記内部反応チューブの開放された下部を閉鎖する遮断プレートと，前記遮断プレートの下部に起立設置されて，前記遮断プレートと共に昇降する連結シリンダーと，前記チャンバ本体の開放された下部面と前記連結シリンダーとの間に連結され，開放された前記チャンバ本体の下部を外部から隔離する遮断部材とを含む。