发明名称 |
晶圆的弯曲的评价方法与使用此评价方法的晶圆的选别方法 |
摘要 |
本发明为一种晶圆的弯曲的评价方法,包含:第一步骤,测量未吸附的自由状态的晶圆的弯曲,以及第二步骤,使用经测量的晶圆的弯曲的数据,求出与点P相隔距离a的点Q<sup>1</sup>与点Q<sup>2</sup>的两点之间的晶圆弯曲量A,以及求出与点P相隔不同于距离a的距离b的点R<sup>1</sup>与点R<sup>2</sup>的两点之间的晶圆弯曲量B,根据晶圆弯曲量A与晶圆弯曲量B计算出于点P中晶圆弯曲量的差,并根据所计算出的晶圆弯曲量的差而评价晶圆的弯曲。如此一来,导入显示于吸附晶圆时因插针夹头的节距差异所产生的弯曲的修正程度的差的新参数,并且使用此新参数评价晶圆的弯曲。 |
申请公布号 |
CN106255923A |
申请公布日期 |
2016.12.21 |
申请号 |
CN201580020539.6 |
申请日期 |
2015.03.12 |
申请人 |
信越半导体株式会社 |
发明人 |
齐藤久之 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01B21/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京京万通知识产权代理有限公司 11440 |
代理人 |
许天易 |
主权项 |
一种晶圆的弯曲的评价方法,包含:第一步骤,测量未吸附的自由状态的晶圆的弯曲;以及第二步骤,使用该经测量的晶圆的弯曲的数据,求出于通过晶圆面内的任意的点P的直线上以该点P作为中心而与该点P相隔距离a的点Q<sup>1</sup>与点Q<sup>2</sup>的两点之间的晶圆弯曲量A,以及求出于同一直在线以该点P作为中心而与该点P相隔不同于距离a的距离b的点R<sup>1</sup>与点R<sup>2</sup>的两点之间的晶圆弯曲量B,根据该晶圆弯曲量A与该晶圆弯曲量B计算出于该点P中晶圆弯曲量的差,并根据所计算出的该晶圆弯曲量的差而评价晶圆的弯曲。 |
地址 |
日本东京都千代田区大手町二丁目2番1号 |