Photoresist developer

摘要

본 발명에 따른 포토레지스트 현상액은 특정 구조의 비이온성 계면활성제 및 알칼리원을 포함하여, 포토레지스트 현상 공정에서 미세패턴의 현상성을 유지시키면서 화합물의 잔류로 인한 잔상 및 기포의 발생을 최소화할 수 있다.