一种工艺处理方法及装置

摘要

本发明提供了一种工艺处理方法及装置，应用于使用石墨舟对硅片进行镀膜的镀膜系统，该方法包括：确定待镀膜的石墨舟的标识；在所述镀膜系统中根据所述石墨舟的标识预先设定所有石墨舟的已使用次数；根据所述标识确定所述石墨舟的已使用次数；根据所述石墨舟的已使用次数确定镀膜工艺中的特气流量参数和镀膜时间参数；根据所述特气流量参数和镀膜时间参数镀膜。在使用石墨舟对硅片进行镀膜操作时，可以根据石墨舟的已使用次数确定特气流量参数和镀膜时间参数，使用次数不同的石墨舟采用不同的特气流量和镀膜时间。即使石墨舟中石墨舟片的表面光滑度降低，也不会影响硅片的镀膜效果，硅片形成的膜的厚度一致，折射率一致，硅片的镀膜效果更统一。

主权项

一种工艺处理方法，其特征在于，应用于使用石墨舟对硅片进行镀膜的镀膜系统，该方法包括：确定待镀膜的石墨舟的标识；在所述镀膜系统中根据所述石墨舟的标识预先设定所有石墨舟的已使用次数；在进行镀膜工艺时根据所述标识确定所述石墨舟的已使用次数；根据所述石墨舟的已使用次数确定镀膜工艺中的特气流量参数和镀膜时间参数；根据所述特气流量参数和镀膜时间参数进行镀膜。