一种极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法及装置

摘要

本发明提供的极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法及装置，在真空环境中，通过实时检测极紫外光学元件表面的污染层厚度，当污染层厚度达到预设的第一阈值，即超出允许的范围时对污染层进行清洗，控制污染层的厚度在允许的范围之内，不需要对极紫外光学元件所处环境进行切换，控制过程简单。

主权项

一种极紫外光学元件表面污染层厚度控制方法，其特征在于，应用于真空环境中，所述方法包括：获取极紫外光学元件表面的污染层厚度，其中，所述极紫外光学元件处于真空环境中；当所述污染层厚度达到预设的第一阈值时向所述真空环境中输入含氧气体对所述污染层进行清洗直至所述污染层厚度低于所述第一阈值。