发明名称 一种逆导型IGBT
摘要 本发明属于功率半导体器件技术领域,涉及一种逆导型IGBT。本发明的逆导型IGBT,其技术方案是:在N型高阻半导体材料表面形成P型区,所述P型区表面沿器件横向方向并列交替形成N型发射区和P型体接触区。在N型发射区中具有介质槽,由位于槽内壁的绝缘介质层和由绝缘介质层包围的导电材料构成,形成槽栅结构;所述N型发射区和P型体接触区的共同引出端为发射极电极。在N型高阻半导体材料的背面,沿器件横向方向由连续交替变换的N型区和P型区形成集电区,所述N型和P型区的共同引出端为集电极。其特征在于:所述集电区的顶部引入具有电场截止作用的重掺杂N型岛,重掺杂N型岛沿器件横向方向间断分布,相邻重掺杂N型岛之间为高阻N型漂移区。
申请公布号 CN106252399A 申请公布日期 2016.12.21
申请号 CN201610786927.1 申请日期 2016.08.31
申请人 电子科技大学 发明人 罗小蓉;邓高强;周坤;刘庆;孙涛;黄琳华;张波
分类号 H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人 葛启函
主权项 一种逆导型IGBT,在N型高阻半导体材料表面形成P型区(1),所述P型区表面沿器件横向方向并列交替形成N型发射区(3)和P型体接触区(4);在N型发射区(3)中部形成贯穿P型区且底部与N型高阻半导体相接触的介质槽(2),介质槽(2)由位于槽内壁的绝缘介质层(21)和由绝缘介质层(21)包围的导电材料(22)构成,由介质槽(2)中的导电材料引出栅电极,形成槽栅结构;所述N型发射区(3)和P型体接触区(4)的共同引出端为发射极电极;在N型高阻半导体材料的背面,沿器件横向方向由连续交替变换的N型区(51)和P型区(52)形成集电区(5),所述N型区(51)和P型区(52)的共同引出端为集电极;所述集电区(5)的顶部引入具有电场截止作用的重掺杂N型岛(6),所述重掺杂N型岛(6)沿器件横向方向间断分布,相邻重掺杂N型岛(6)之间为高阻N型漂移区。
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