| 摘要 |
【課題】スループット及び精度を改善する、ターゲット構造を使用したオーバーレイメトロロジ方法及び装置を提供する。【解決手段】基板は、リソグラフィプロセスによってその上に形成された3つ以上のオーバーレイ格子を有し、各オーバーレイ格子は既知のオーバーレイバイアスを有する。オーバーレイバイアス値は、例えばゼロを中心とする領域において2値を含み、P/2を中心とする領域に2値を含み、Pは格子のピッチである。オーバーレイを、異なるオーバーレイバイアス値及びオーバーレイとターゲット非対称性との間の推測された非線形関係に関する知識を用いて、格子に関する非対称性測定値から計算し、それによりフィーチャ非対称性を補正する。ゼロバイアス及びP/2の領域における周期関係は逆符号の勾配を有する。計算により、当該勾配は異なる大きさ及び逆符号を有することが可能となり、フィーチャ非対称性及びその他の処理の影響に関する情報も提供される。【選択図】図１３ |
