发明名称 |
像素结构及制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种像素结构及制作方法,该像素结构包括:一基板;阳极电极层,其设置于所述基板上;多个像素单元,其设置于所述阳极电极层上并呈矩形阵列排布,每一所述像素单元包括四个呈矩形阵列排布的子像素单元;任意相邻两个像素单元的相邻的一侧上的相互正对的两个子像素单元的发光颜色相同;阴极电极层,其设置于所述多个像素单元之上。本发明具有提高金属光罩制程能力以及提高像素单元的解析度的目的。 |
申请公布号 |
CN106229300A |
申请公布日期 |
2016.12.14 |
申请号 |
CN201610708340.9 |
申请日期 |
2016.08.23 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
陈永胜;徐湘伦 |
分类号 |
H01L21/84(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/84(2006.01)I |
代理机构 |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 |
代理人 |
黄威 |
主权项 |
一种像素结构,其特征在于,包括:一基板;阳极电极层,其设置于所述基板上;多个像素单元,其设置于所述阳极电极层上并呈矩形阵列排布,每一所述像素单元包括四个呈矩形阵列排布的子像素单元;任意相邻两个像素单元的相邻的一侧上的相互正对的两个子像素单元的发光颜色相同;阴极电极层,其设置于所述多个像素单元之上。 |
地址 |
430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |