发明名称 发光元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种半导体发光元件,其特征在于,在光提取层具有由具有不同折射率的两个系统(结构体)构成的周期结构,即所述两个系统(结构体)的界面满足布拉格散射的条件,且具有光子带隙的光子晶体周期结构。
申请公布号 CN103650176B 申请公布日期 2016.12.14
申请号 CN201280034634.8 申请日期 2012.05.25
申请人 丸文株式会社;东芝机械株式会社;独立行政法人理化学研究所;株式会社爱发科 发明人 鹿岛行雄;松浦惠里子;西原浩巳;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;藤川纱千惠;尹成圆;高木秀树;上村隆一郎;长田大和
分类号 H01L33/22(2006.01)I;H01L33/32(2006.01)I 主分类号 H01L33/22(2006.01)I
代理机构 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人 吴大建;刘华联
主权项 一种半导体发光元件,其特征在于,在光提取层具有光子晶体周期结构,所述光子晶体周期结构由具有不同折射率的两个系统构成,在所述两个系统的界面上,决定所述光子晶体周期结构的设计波长λ、周期a和半径R满足布拉格条件;所述周期a和所述半径R的比(R/a)的值是能够使所述光子晶体周期的结构具有最大光子带隙的值;以及所述布拉格条件的次数m,其范围在1<m<5,并且是通过使用FDTD法进行的模拟解析结果对于所述设计波长λ具有最大光提取效率的m值,进行根据FDTD法的解析时,首先,通过求出的R/a求与次数m对应的直径d、周期a,且决定深度h,其中0<h<1.0d,将由该d、a、h构成的圆孔在折射率分别为n1、n2的两个媒质的界面上以周期结构进行设定,并以FDTD法解析,从而求出光的提取效率和配光性。
地址 日本东京都