发明名称 FILM FORMING APPARATUS
摘要 본 발명은, 열분해된 재료 가스의 밀도를 유지할 수 있는 성막장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 윗면에서 웨이퍼를 유지하는 제1부분과, 상기 제1부분에 연결되는 제2부분을 갖는 서셉터와, 상기 서셉터의 윗쪽에 재료 가스를 공급하는 가스 공급부와, 상기 제1부분을 가열하는 제1히터와, 상기 제2부분을 가열하는 제2히터와, 상기 제1히터와 상기 제2히터의 온도를 제어하는 온도 제어장치를 구비하고, 상기 온도 제어장치는, 상기 웨이퍼에의 성막중에, 상기 제1히터의 온도를 유지하면서, 상기 제2히터의 온도를 증가시킴으로써, 상기 서셉터의 윗쪽의 온도를 일정하게 유지하는 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR20160143631(A) 申请公布日期 2016.12.14
申请号 KR20160165549 申请日期 2016.12.07
申请人 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 发明人 타카다 마코토;나기라 타카시
分类号 H01L21/205;H01L21/324;H01L21/683 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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