发明名称 抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路
摘要 本实用新型公开一种抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路,该MOS包括衬底,衬底上表面的中部沉积有栅绝缘层,在栅绝缘层上有多晶硅或金属形成栅极,通过离子注入在衬底两端形成的源极和漏极,在栅极、源极与漏极上方沉积有隔离层,源极和漏极上方的隔离层刻蚀有用于引出源极和漏极的接触孔,在源极和漏极的接触孔上沉积有金属,漏极上的金属刻蚀有用于隔离源极和漏极的隔离缺口,源极上的金属直接延伸覆盖过有源沟道区。本实用新型提出的MOS管有效的遮挡了光线,抑制了光致漏电流的产生,既改善了晶体管的关态特性,也提高了有源寻址驱动电路的工作性能。
申请公布号 CN205810819U 申请公布日期 2016.12.14
申请号 CN201620304944.2 申请日期 2016.04.12
申请人 中山大学;广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院 发明人 刘召军;张珂;彭灯;王河深;莫炜静;刘熹;黄茂森
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/41(2006.01)I;H01L27/105(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人 林丽明
主权项 一种抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管,包括衬底,衬底上表面的中部沉积有栅绝缘层,在栅绝缘层上有多晶硅或金属形成栅极,通过离子注入在衬底两端形成的源极和漏极,其特征在于,在栅极、源极与漏极上方沉积有隔离层,源极和漏极上方的隔离层刻蚀有用于引出源极和漏极的接触孔,在源极和漏极上的接触孔中沉积有金属,漏极上接触孔中金属刻蚀有用于隔离源极和漏极的隔离缺口,源极上的金属直接延伸覆盖过有源沟道区。
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