发明名称 |
抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路 |
摘要 |
本实用新型公开一种抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管及有源寻址电路,该MOS包括衬底,衬底上表面的中部沉积有栅绝缘层,在栅绝缘层上有多晶硅或金属形成栅极,通过离子注入在衬底两端形成的源极和漏极,在栅极、源极与漏极上方沉积有隔离层,源极和漏极上方的隔离层刻蚀有用于引出源极和漏极的接触孔,在源极和漏极的接触孔上沉积有金属,漏极上的金属刻蚀有用于隔离源极和漏极的隔离缺口,源极上的金属直接延伸覆盖过有源沟道区。本实用新型提出的MOS管有效的遮挡了光线,抑制了光致漏电流的产生,既改善了晶体管的关态特性,也提高了有源寻址驱动电路的工作性能。 |
申请公布号 |
CN205810819U |
申请公布日期 |
2016.12.14 |
申请号 |
CN201620304944.2 |
申请日期 |
2016.04.12 |
申请人 |
中山大学;广东顺德中山大学卡内基梅隆大学国际联合研究院 |
发明人 |
刘召军;张珂;彭灯;王河深;莫炜静;刘熹;黄茂森 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/41(2006.01)I;H01L27/105(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
广州粤高专利商标代理有限公司 44102 |
代理人 |
林丽明 |
主权项 |
一种抑制有源沟道区光致漏电流产生的MOS管,包括衬底,衬底上表面的中部沉积有栅绝缘层,在栅绝缘层上有多晶硅或金属形成栅极,通过离子注入在衬底两端形成的源极和漏极,其特征在于,在栅极、源极与漏极上方沉积有隔离层,源极和漏极上方的隔离层刻蚀有用于引出源极和漏极的接触孔,在源极和漏极上的接触孔中沉积有金属,漏极上接触孔中金属刻蚀有用于隔离源极和漏极的隔离缺口,源极上的金属直接延伸覆盖过有源沟道区。 |
地址 |
510275 广东省广州市海珠区新港西路135号 |