发明名称 位置制御方法
摘要 【課題】位置目標値近傍の不安定な動作を解消し、位置制御系を容易に設計、調整可能とした位置制御方法を提供する。【解決手段】二次標準形にて表現した位置制御系の閉ループ伝達関数の減衰係数とアクチュエータ等に起因する減速時間とを用いてゲイン限界を設計し、制御対象物が位置目標値に到達するように所定位置から一定のゲイン限界のもとで減速していった時の行き過ぎ量を求め、位置制御系は、制御対象物の現在速度,減速時間,所定時間経過後までの距離偏差,行き過ぎ量、ゲイン限界を用いて、距離偏差と行き過ぎ量の所定倍のしきい値との大小関係に応じた速度指令値であって距離偏差がしきい値に一致する位置からゲイン限界が一定となるような速度指令値を生成し、この速度指令値に従ってアクチュエータを制御することにより、制御対象物の位置を位置目標値に追従させる。【選択図】図1
申请公布号 JP6044733(B1) 申请公布日期 2016.12.14
申请号 JP20160077796 申请日期 2016.04.08
申请人 富士電機株式会社 发明人 常盤 欣史
分类号 G05D3/12 主分类号 G05D3/12
代理机构 代理人
主权项
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