发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND LIGHT BLOCKING LAYER USING THE SAME
摘要 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 카도계 수지; (B) 반응성 불포화 화합물; (C) 안료; (D) 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용한 차광층이 제공된다. [화학식 1](상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)
申请公布号 KR101686567(B1) 申请公布日期 2016.12.14
申请号 KR20130126542 申请日期 2013.10.23
申请人 제일모직 주식회사 发明人 이윤지;이창민;김민성;김승현;원동훈;최승집
分类号 G03F7/038;G03F7/00;G03F7/033 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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