发明名称 曝光装置、平面显示器的制造方法、及元件制造方法
摘要 本发明的基板载台装置(PST),于重量抵消装置(50)所具有的臂部(54)前端固定有与X梁(25)所具有的X固定子(82)对向、对重量抵消装置(50)产生磁吸力的X可动子(56)。重量抵消装置(50),通过该磁吸力将本身重量及重量抵消装置(50)所支承的微动载台(30)等重量的一部分通过基架(14)传至地面(11)上。从而减轻加于防振装置(34)的偏载重。
申请公布号 CN104204955B 申请公布日期 2016.12.14
申请号 CN201380018931.8 申请日期 2013.04.03
申请人 株式会社 尼康 发明人 青木保夫
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/68(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 张旭东
主权项 一种扫描型的曝光装置,是在曝光处理时相对曝光用能量束使曝光对象物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动,其具备:移动体,能于所述第1方向至少以所述既定第1行程移动、且能在所述水平面内于与所述第1方向正交的第2方向以第2行程移动;物体保持构件,能保持所述物体、与所述移动体一起至少在与所述水平面平行的方向移动;重量抵消装置,从下方支承所述物体保持构件以抵消所述物体保持构件的重量;支承构件,延伸于所述第1方向,从下方支承所述重量抵消装置并能在从下方支承所述重量抵消装置的状态下,于所述第2方向以所述第2行程移动;支承架台,支承所述支承构件;以及载重减轻装置,支承所述移动体,通过将作用于所述重量抵消装置的力的一部分释放至所述支承架台外部,来减轻作用于所述支承架台的重力方向的载重负荷。
地址 日本东京都
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