发明名称 | 在晶片检验的逻辑中的图案抑制 | ||
摘要 | 本发明提供用于检测晶片上的缺陷的方法及系统。一种系统包含照明子系统,其经配置以将光引导到晶片上的至少一个光点。所述系统还包含至少一个元件,其经配置以阻挡从所述至少一个光点散射的光的第一部分到达检测器,同时允许由所述检测器检测从所述至少一个光点散射的所述光的第二部分。从所述晶片上的逻辑区中的一或多个图案化特征散射所述光的所述第一部分。不从所述一或多个图案化特征散射所述光的所述第二部分。所述检测器并非成像检测器。所述系统进一步包含计算机子系统,其经配置以基于所述检测器的输出而检测所述晶片上的缺陷。 | ||
申请公布号 | CN106233448A | 申请公布日期 | 2016.12.14 |
申请号 | CN201580019846.2 | 申请日期 | 2015.04.15 |
申请人 | 科磊股份有限公司 | 发明人 | V·盖德;N·阿姆特胡 |
分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 张世俊 |
主权项 | 一种经配置以检测晶片上的缺陷的系统,其包括:照明子系统,其经配置以将光引导到晶片上的至少一个光点,其中所述照明子系统包括至少一个光源;扫描子系统,其经配置以致使所述至少一个光点扫描遍及所述晶片;一或多个检测通道,其中所述一或多个检测通道中的至少一者包括:检测器,其经配置以检测从所述晶片上的所述至少一个光点散射的光且响应于所述经检测的散射光而产生输出;及至少一个元件,其经配置以阻挡从所述至少一个光点散射的所述光的一或多个第一部分到达所述检测器,同时允许由所述检测器检测从所述至少一个光点散射的所述光的一或多个第二部分,其中从形成于所述晶片上的逻辑区中的一或多个图案化特征散射所述光的所述一或多个第一部分,其中不从所述一或多个图案化特征散射所述光的所述一或多个第二部分,且其中所述一或多个检测通道不包括任何成像检测器;及计算机子系统,其经配置以基于所述输出而检测所述晶片上的缺陷。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |