发明名称 APPARATUS FOR LITHOGRAPY AND METHOD FOR CLEANING OF THE SAME
摘要 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치는, 광을 발생시키는 광원계, 상기 광을 조절하고 패터닝하는 광학계, 상기 패터닝된 상기 광으로 기판에 대해 노광 공정을 수행하는 기판계, 그리고 상기 광원계, 상기 광학계, 그리고 상기 기판계를 제어하는 제어부를 포함하되, 상기 광학계는 챔버, 상기 챔버 내에 배치되어 상기 광을 조절하는 반사 부재, 그리고 상기 기판계와 대향되는 상기 챔버의 일측에 배치된 제 1 개폐 밸브를 포함하되, 상기 제어부는, 상기 노광 공정을 진행할 때 상기 제 1 개폐 밸브를 열고, 상기 챔버 내에 대해 세정 공정을 진행할 때 상기 제 1 개폐 밸브를 닫도록 상기 광학계를 제어한다.
申请公布号 KR20160142938(A) 申请公布日期 2016.12.14
申请号 KR20150078660 申请日期 2015.06.03
申请人 삼성전자주식회사 发明人 장윤경;김성주;박진홍;서도현;이현훈
分类号 G03F7/20;H01L21/02;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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