发明名称 曝光装置
摘要 本发明的曝光装置是通过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置,具备:具有曝光用光射出的射出面的光学构件、包含将基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部以及用以规定可配置基板的开口且具有在基板被保持于第1保持部保持的状态下配置在基板上面周围的上面的第1构件的基板保持装置、以及至少一部分配置在基板与第1构件间的间隙且具有对液体为拨液性的上面的多孔构件。曝光装置通过多孔构件回收流入间隙的液体的至少一部分。
申请公布号 CN103765555B 申请公布日期 2016.12.14
申请号 CN201280042481.1 申请日期 2012.07.19
申请人 株式会社 尼康 发明人 佐藤真路
分类号 H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/027(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 任默闻
主权项 一种曝光装置,其特征在于,通过液体以曝光用光使基板曝光,具备:基板保持装置,包含将所述基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置所述基板的开口、具有在所述基板被保持于所述第1保持部保持的状态下配置在所述基板的上面周围的上面的第1构件;所述第1构件的开口,包含位于距所述第1保持部中心的第1距离、被保持于所述第1保持部的所述基板的侧面可对向的第1区域,以及和所述第1区域相邻配置、位于距所述第1保持部中心的较所述第1距离长的第2距离的第2区域;所述第1区域与所述第2区域,沿所述第1保持部的周方向交互配置多个。
地址 日本东京都