发明名称 |
曝光装置 |
摘要 |
本发明的曝光装置是通过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置,具备:具有曝光用光射出的射出面的光学构件、包含将基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部以及用以规定可配置基板的开口且具有在基板被保持于第1保持部保持的状态下配置在基板上面周围的上面的第1构件的基板保持装置、以及至少一部分配置在基板与第1构件间的间隙且具有对液体为拨液性的上面的多孔构件。曝光装置通过多孔构件回收流入间隙的液体的至少一部分。 |
申请公布号 |
CN103765555B |
申请公布日期 |
2016.12.14 |
申请号 |
CN201280042481.1 |
申请日期 |
2012.07.19 |
申请人 |
株式会社 尼康 |
发明人 |
佐藤真路 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
任默闻 |
主权项 |
一种曝光装置,其特征在于,通过液体以曝光用光使基板曝光,具备:基板保持装置,包含将所述基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部、以及用以规定可配置所述基板的开口、具有在所述基板被保持于所述第1保持部保持的状态下配置在所述基板的上面周围的上面的第1构件;所述第1构件的开口,包含位于距所述第1保持部中心的第1距离、被保持于所述第1保持部的所述基板的侧面可对向的第1区域,以及和所述第1区域相邻配置、位于距所述第1保持部中心的较所述第1距离长的第2距离的第2区域;所述第1区域与所述第2区域,沿所述第1保持部的周方向交互配置多个。 |
地址 |
日本东京都 |