发明名称 |
激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法 |
摘要 |
一种基于激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法,其特征在于当准直的激光束聚焦到非线性材料时,诱导出材料的非线性特性。由于激光强度的高斯分布特点,使激光中心区域的能量最高,并沿着径向逐渐减弱,激光能量转化为材料的温度差,从而在非线性材料内部诱导产生瞬态热探针。在光刻过程中,激光束打开,热探针形成;激光束关闭,热探针消失。形成的热探针随着激光束自由移动,热探针的形成与关闭是动态的、可逆的。本发明简单实用,不需要复杂的操作,特别适用于透明材料的微纳结构制造,能获得纳米尺度的特征线宽。 |
申请公布号 |
CN106227000A |
申请公布日期 |
2016.12.14 |
申请号 |
CN201610580128.9 |
申请日期 |
2016.07.22 |
申请人 |
中国科学院上海光学精密机械研究所 |
发明人 |
魏劲松;魏涛 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G03F7/26(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
张泽纯;张宁展 |
主权项 |
一种激光诱导瞬态热探针的纳米光刻方法,其特征在于该方法包括以下几个步骤:a)在基片上用磁控溅射的方法镀上一层热刻蚀薄膜;b)在所述的热刻蚀薄膜上再镀上一层非线性薄膜构成待刻样品;c)利用激光直写系统对所述的待刻样品的热刻蚀薄膜进行纳米光刻;d)对待刻样品进行湿法刻蚀,去除所述的非线性薄膜;e)对待刻样品进行湿法显影得到具有所需的纳米结构的样品。 |
地址 |
201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱 |