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经营范围
发明名称
贯通孔形成方法及配线电路基板的制造方法
摘要
于层积体,例如,使用雷射光,藉由圆割(trepan)加工法形成第1贯通孔。所谓圆割加工法系欲形成之第1贯通孔的略中心区域开始雷射光的照射,沿着欲形成之第1贯通孔的孔径所对应之圆周,进行电射光的照射,并在最后以回到欲形成之第1贯通孔的前述略中心区域之轨道,进行电射光的照射之加工法。接着,与第1贯通孔的形成时相同,藉由照射雷射光而形成,以与第1贯通孔略同心之大于该当第1贯通孔的孔径之第2贯通孔。
申请公布号
TW200814888
申请公布日期
2008.03.16
申请号
TW096122609
申请日期
2007.06.22
申请人
日东电工股份有限公司
发明人
西田干司;松尾直之;浦入正胜
分类号
H05K3/42(2006.01)
主分类号
H05K3/42(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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