用于测量基片中间隔区域的系统

摘要

本发明涉及一种用于测量基片中间隔区域的系统。该用于测量至少一个基片(6)的第一部分(4)和第二部分(5)之间的间隔区域C扩展的所述系统(2)包括：用于发射至少两个入射光束Fi的模块(10)，每个入射光束在基片(6)上照亮间隔点，所述至少两个入射光束Fi能够穿过第一部分(4)和间隔区域C以及遇到第二部分，这样每个入射光束产生至少一个源自第一部分(4)和间隔区域C之间界面的第一出射光束Fe，以及至少一个源自间隔区域C和第二部分(5)之间界面的第二出射光束Fe；用于检测产生自第一和第二出射光束Fe之间干涉的光强的检测模块(8)；以及用于确定间隔区域C扩展状况的计算机(11)。

主权项

一种用于测量至少一个基片(6)的第一部分(4)和第二部分(5)之间的间隔区域扩展的测量系统(2)，所述测量系统(2)包括：‑发射模块(10)，其用于发射照亮基片(6)区域的至少两个空间分开的入射光束(Fi)，所述发射模块(10)被设置以使得至少两个入射光束(Fi)能够穿过第一部分(4)、间隔区域(C)并且遇到第二部分(5)，这样每个入射光束产生至少一个源自第一部分(4)和间隔区域(C)之间界面的第一出射光束，和至少源自间隔区域(C)和第二部分(5)之间界面的第二出射光束(Fe)，‑用于检测发光强度的检测模块(8)，该检测模块被设置以便在第一出射光束和第二出射光束(Fe)之间的干涉给定点处检测产生的发光强度的值，‑计算机(11)，其被设置为根据由检测模块(8)检测的发光强度的时间变化来确定代表间隔区域(C)扩展情况的至少一个参数。