发明名称 研磨垫、研磨方法以及研磨系统
摘要 一种研磨垫、研磨方法以及研磨系统,研磨垫与载具环结合使用,用以研磨基材,在研磨时研磨垫具有运动方向,其中载具环具有至少一载具沟槽,基材具有基材半径,研磨垫包括研磨层以及位于研磨层中的表面图案,所述表面图案具有多条横向沟槽,横向沟槽的各切线与运动方向的切线具有非零度夹角,且横向沟槽对应于运动方向各具有横向沟槽轨迹,横向沟槽轨迹各具有轨迹宽度,此轨迹宽度小于基材半径。此外,在载具环相对于运动方向的前端区域,横向沟槽具有至少一载具相容性沟槽,至少一载具相容性沟槽与至少一载具沟槽的位置对准。
申请公布号 CN102873596B 申请公布日期 2016.12.14
申请号 CN201110228406.1 申请日期 2011.08.10
申请人 智胜科技股份有限公司 发明人 王裕标
分类号 B24B3/00(2006.01)I;B24B37/20(2012.01)I;B24B37/04(2012.01)I;H01L21/304(2006.01)I 主分类号 B24B3/00(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种研磨垫,其与一载具环结合使用,用以研磨一基材,在研磨时该研磨垫具有一运动方向,其中该载具环具有至少一载具沟槽,该基材具有一基材半径,该研磨垫包括:一研磨层;以及一表面图案,位于该研磨层中,该表面图案具有多条横向沟槽,其中该表面图案还包括至少一分隔空白区,该至少一分隔空白区将所述横向沟槽分隔开来,使得所述横向沟槽彼此不连接在一起,所述横向沟槽的各切线与该运动方向的切线具有一非零度夹角,且所述横向沟槽对应于该运动方向各具有一横向沟槽轨迹,所述横向沟槽轨迹各具有一轨迹宽度,该轨迹宽度小于该基材半径,其中,在该载具环相对于该运动方向的一前端区域,所述横向沟槽具有至少一载具相容性沟槽,该至少一载具相容性沟槽与该至少一载具沟槽的位置对准。
地址 中国台湾台中市工业区9路12号
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