发明名称 |
一种用于晶体硅太阳电池栅线的非接触式制备系统 |
摘要 |
本实用新型提供了一种用于晶体硅太阳电池栅线的非接触式制备系统,属于晶体硅太阳电池领域。该用于晶体硅太阳电池栅线的非接触式制备系统包括喷墨打印喷头和加热片;在所述喷墨打印喷头上设置有喷孔;晶体硅片放置在所述加热片上;所述喷头与晶体硅片上的栅线平行设置,喷头上的每行喷孔均与晶体硅片上的栅线平行;喷印墨水从所述喷孔中滴出形成墨滴,在晶体硅片上依次打印各层栅线,形成栅线结构。本实用新型采用喷墨打印这种非接触式的半导体器件加工方式,有效地避免了因接触而造成晶体硅片的碎裂情况的方式,有效地降低了碎片率,明显降低了制造成本。 |
申请公布号 |
CN205810827U |
申请公布日期 |
2016.12.14 |
申请号 |
CN201620669200.0 |
申请日期 |
2016.06.27 |
申请人 |
天津斯沃姆科技发展有限公司 |
发明人 |
陈瀚宁;何茂伟;苏卫星;何友国;梁晓丹;孙丽玲;刘芳 |
分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I;B41M5/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I |
代理机构 |
北京知舟专利事务所(普通合伙) 11550 |
代理人 |
郭韫 |
主权项 |
一种用于晶体硅太阳电池栅线的非接触式制备系统,其特征在于:所述用于晶体硅太阳电池栅线的非接触式制备系统包括喷墨打印喷头和加热片;在所述喷墨打印喷头上设置有喷孔;晶体硅片放置在所述加热片上;所述喷头与晶体硅片上的栅线平行设置,喷头上的每行喷孔均与晶体硅片上的栅线平行;喷印墨水从所述喷孔中滴出形成墨滴,在晶体硅片上依次打印各层栅线,形成栅线结构。 |
地址 |
300387 天津市西青区学府工业区才智道35号海澜德大厦4号楼402室 |