发明名称 |
稳定的高度微调机构 |
摘要 |
本发明提供了一种稳定的高度微调机构,用于对一本体的高度进行精确微调,包括:基座;限位结构,所述限位结构连接于所述基座与所述本体之间,以使所述基座与所述本体之间的水平相对位置固定不变;微调块,所述微调块一端设置有第二楔形块,所述第二楔形块与所述本体上的第一楔形块相互配合,所述微调块的另一端能够滑动地安装于所述基座上,所述楔形配合的角度α位于第一角度区域,或者所述楔形配合角度α位于第三角度区域中。本发明中,采用限位结构使基座与本体之间的水平相对位置固定不变,采用微调块楔形配合本体并滑动配合基座,使得本体相对于基座高度能够稳定地进行微调。 |
申请公布号 |
CN106185198A |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201610658527.2 |
申请日期 |
2016.08.11 |
申请人 |
北京领邦智能装备股份公司 |
发明人 |
崔凯翔;吴桐 |
分类号 |
B65G27/08(2006.01)I |
主分类号 |
B65G27/08(2006.01)I |
代理机构 |
北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 |
代理人 |
胡剑辉 |
主权项 |
一种稳定的高度微调机构,用于对一本体的高度进行精确微调,其特征在于,包括:基座;限位结构,所述限位结构连接于所述基座与所述本体之间,以使所述基座与所述本体之间的水平相对位置固定不变;微调块,所述微调块一端设置有第二楔形块,所述第二楔形块与所述本体上的第一楔形块相互配合,所述微调块的另一端能够滑动地安装于所述基座上;所述楔形配合的角度α位于第一角度区域,或者所述楔形配合角度α位于第三角度区域中;其中,所述第一角度区域为完全自锁区域,第三角度区域为完全非自锁区域,第二角度区域位于所述第一角度区域和所述第三角度区域之外区域,为过渡区域。 |
地址 |
100084 北京市海淀区中关村东路1号院8号楼地下一层CB113 |