超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置及方法

摘要

本发明公开一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将该照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板；一投影物镜，用于将透射过该掩模板的成像光束成像至一硅片上；一偏振补偿装置，用于偏振调制该曝光光束或/和该成像光束，该偏振补偿装置位于该照明单元及该掩模板之间或者位于该投影物镜以及该硅片之间。

主权项

一种超高数值孔径光刻成像偏振补偿装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供一照明光束；一照明单元，用于将所述照明光束调整为曝光光束并照射一掩模板；一投影物镜，用于将透射过所述掩模板的成像光束成像至一硅片上；一偏振补偿装置，用于偏振调制所述曝光光束或所述成像光束，所述偏振补偿装置位于所述照明单元及所述掩模板之间或者位于所述投影物镜以及所述硅片之间；所述偏振补偿装置由石英基板制成的若干方形区域构成；所述每个方形区域上形成了对所述曝光光束或所述成像光束进行X向或Y向或S向偏振调制的电光晶体，所述每个方形区域形成一偏振方向可变的X向线偏振器或Y向线偏振器或S向线偏振器。