发明名称 一种超连续谱的耦合控制装置
摘要 本实用新型提供了一种超连续谱的耦合控制装置,从激光器输出的激光束经过调节单元后通过有楔角的反射镜产生反射光R1、反射光R2和透射光T1,反射光R1进入耦合模块产生超连续谱,根据透射光T1的近场和反射光R2的远场对调节单元进行一级控制,一级控制完成后根据超连续谱的信息对调节单元进行二级控制,通过控制调节单元改变反射光R1注入到耦合模块的指向,产生超连续谱。本实用新型能够解决由于风机气流、振动环境、机械应力等引起的超连续谱的动态漂移问题,实现超连续谱稳定输出。
申请公布号 CN205787511U 申请公布日期 2016.12.07
申请号 CN201620691693.8 申请日期 2016.07.05
申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 发明人 母杰;周凯南;曾小明;郭仪;王逍;左言磊;朱启华;周松;谢娜;王晓东;黄小军;吴朝辉;黄征;孙立;李庆;蒋东镔;粟敬钦
分类号 G02F1/35(2006.01)I;H01S3/067(2006.01)I 主分类号 G02F1/35(2006.01)I
代理机构 中国工程物理研究院专利中心 51210 代理人 翟长明;韩志英
主权项 一种超连续谱的耦合控制装置,其特征在于:所述的耦合控制装置包括激光器(1)、调节单元(2)、反射镜(3)、探测模块I(4)、耦合模块(5)、探测模块II(6)、成像模块(7)、探测模块III(8)和处理模块(9);激光器(1)输出的激光束经过调节单元(2)后入射到反射镜(3),通过反射镜(3)分别产生透射光T1、反射光R1、反射光R2,透射光T1入射到探测模块I(4),通过探测模块I(4)进行近场采集;反射光R1进入耦合模块(5)产生超连续谱,超连续谱的信息通过探测模块II(6)进行采集;反射光R2进入成像模块(7)后通过探测模块III(8)进行远场采集;处理模块(9)根据采集得到的透射光T1的近场和反射光R2的远场对调节单元(2)进行一级控制,一级控制完成后处理模块(9)再根据超连续谱的信息对调节单元(2)进行二级控制,通过控制调节单元(2)改变反射光R1注入到耦合模块(5)的指向,实现超连续谱稳定输出。
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