发明名称 |
一种高光萃取效率的近紫外LED芯片 |
摘要 |
本实用新型公开一种高光萃取效率的近紫外LED芯片。LED芯片的结构从下到上依次为金属基板、电镀种子层、反射电极层、p型氮化镓层、有源层、n型氮化镓层、二维光子晶体结构和n型金属电极;所述金属基板由高导热的金属组成,金属基板为铜材料,厚度范围为80~250μm;反射电极为区域沉积于芯片中心位置,电镀种子层为整层沉积,覆盖整个反射电极以及过道区;所述电镀种子层除了起电镀种子层作用外还在于保护反射电极层的扩散,防止造成芯片漏电失效。本实用新型所设计光子晶体结构,不仅具有较宽的光子禁带,并且所制备的光子晶体的参数使得LED芯片具有较高的光萃取效率。 |
申请公布号 |
CN205790052U |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201620529415.2 |
申请日期 |
2016.06.03 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
胡晓龙;王洪;齐赵毅;黄华茂 |
分类号 |
H01L33/40(2010.01)I;H01L33/46(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/40(2010.01)I |
代理机构 |
广州粤高专利商标代理有限公司 44102 |
代理人 |
何淑珍 |
主权项 |
一种高光萃取效率的近紫外LED芯片,其特征在于它的结构从下到上依次为金属基板、电镀种子层、反射电极层、 p型氮化镓层、有源层、n型氮化镓层、二维光子晶体结构和n型金属电极;所述金属基板由高导热的金属组成,金属基板为铜材料,厚度范围为80~250μm;所述电镀种子层为Ni/Au,Cr/Au,Ti/Au,Cr/Pt/Au,Ti/Cu,TiW/Cu中的一种,该电镀种子层完全覆盖反射电极的表面和侧面;所述电镀种子层为整层沉积;所述反射电极是基于Ag‑,Ni/Ag‑,ITO/Ag‑,ITO/Al‑具有低欧姆接触,高反射率的电极结构;反射电极为区域沉积于芯片中心位置,电镀种子层为整层沉积,覆盖整个反射电极以及过道区。 |
地址 |
510640 广东省广州市天河区五山路381号 |