| 主权项 |
1.一种用于硬式磁碟机之磁性记录碟片,其包含有:一非磁性载体;一铬钒合金(CrV)层,溅镀于该载体之上,其原子百分比范围为:百分之七十五至百分八十五之铬,以及百分之十五至百分之二十五之钒;一磁性层,溅镀于该铬钒合金层之上,其系由钴铬铂钽铌五元合金(CoCrPtTaNb)所组成,其中各金属成份之原子百分比范围为:百分之七十至百分之八十五之钴、百分之十至百分之三十之铬、百分之二至百分之十五之铂、百分之二至百分之十之钽、及百分之一至百分之六之铌;以及一碳保护膜,溅镀于该磁性层之上。2.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该非磁性载体系为一玻璃材质。3.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该非磁性载体系为一陶瓷材质。4.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该非磁性载体系为一玻璃陶瓷(glass-ceramic)材质。5.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该非磁性载体系为一铝质材料所制成。6.如申请专利范围第5项所述之磁性记录碟片,其中该铝质材料载体表面有一由磷化镍(NiP)所组成之无电极电镀层。7.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该无电极电镀层与该铬钒合金层之间,有一由镍铝合金(NiAl)所组成之种子层,该种子层之原子百分比范围为:百分之四十至百分之六十之镍及百分之六十至百分之四十之铝。8.如申请专利范围第7项所述之磁性记录碟片,其中该种子层之溅镀厚度系介于200A至1000A之间。9.如申请专利范围第7项所述之磁性记录碟片,其中该铬钒合金层之溅镀厚度系介于50A至1000A之间。10.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该铬钒合金层之溅镀厚度系介于200A至1000A之间。11.如申请专利范围第1项所述之磁性记录碟片,其中该磁性层之溅镀厚度系介于100A至400A之间。12.如申请专利范围第9项所述之磁性记录碟片,其中该磁性记录碟片之抗磁力大于4000 Oersteds。13.如申请专利范围第10项所述之磁性记录碟片,其中该磁性记录碟片之抗磁力大于3700 Oersteds。图式简单说明:第一图为本发明磁性记录碟片之横截面的示意图。第二图为第一图磁性记录碟片溅镀制程的示意图。第一表至第四表均为本发明磁性记录碟片与常用磁性记录碟片之磁性参数的比较。 |
