发明名称 |
一种减压干燥设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种减压干燥设备,包括底盖和上盖,所述底盖上设置有支撑台,所述底盖和所述上盖相对设置,并且所述底盖和所述上盖之间形成密封空腔,所述支撑台位于所述密封空腔内,其中,所述上盖包括侧壁和与所述侧壁相连的顶盖,所述顶盖的至少一部分能够沿朝向或远离所述底盖的方向移动。本实用新型提供的减压干燥设备消除了基板上由于光刻胶干燥不均匀导致的膜厚差异性,使得玻璃表面的光刻胶达到更好的膜厚均一性,提高了产品的质量。 |
申请公布号 |
CN205762150U |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201620696247.6 |
申请日期 |
2016.07.05 |
申请人 |
北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
张振宇;韩亚军;龚磊;吴克芳;陈国 |
分类号 |
B05D3/12(2006.01)I |
主分类号 |
B05D3/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
彭瑞欣;陈源 |
主权项 |
一种减压干燥设备,包括底盖、上盖和支撑台,所述底盖和所述上盖相对设置,并且所述底盖和所述上盖之间形成密封空腔,所述支撑台位于所述密封空腔内,其特征在于,所述上盖包括侧壁和与所述侧壁相连的顶盖,所述顶盖的至少一部分能够沿朝向或远离所述底盖的方向移动。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区经海一路118号 |