发明名称 A semiconductor device and a method of fabricating the same
摘要 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 소자는 활성영역을 정의하는 소자 분리막을 포함하는 기판, 상기 소자 분리막으로부터 돌출되고 제 1 방향으로 연장되는 핀, 상기 깊은 게이트 핀 영역 및 소오스/드레인 핀 영역을 포함하고, 상기 게이트 핀 영역 상에 배치되고, 상기 제 1 방향에 교차하는 제 2 방향으로 연장된 게이트 패턴, 및 상기 소오스/드레인 핀 영역의 측벽 상에 배치된 소오스/드레인 부를 포함하되, 상기 제 2 방향으로의 상기 소오스/드레인 핀 영역의 폭과 상기 제 2 방향으로의 상기 게이트 핀 영역의 폭은 서로 다를 수 있다.
申请公布号 KR20160139120(A) 申请公布日期 2016.12.07
申请号 KR20150073121 申请日期 2015.05.26
申请人 삼성전자주식회사 发明人 정수진;김진범;문강훈;이관흠;이병찬;이초은;허, 양
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
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