| 摘要 |
인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는, 기판(50)이 열처리되는 공간을 각각 제공하는 적어도 하나의 가열로(Furnace; 110a, 120a, 130a, 140a, 150a); 각각의 가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의 내부에 설치되어 기판(50)을 이송시키는 기판 이송부(350); 각각의 가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)마다, 기판(50)의 이송방향에 수직한 방향으로 일정 간격을 가지면서, 각각의 가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)를 관통하도록 설치되며, 기판(50)을 승온시키는 복수개의 히터(200); 기판 이송부(350) 상에 탑재되어 기판(50)을 지지하는 지지부재(60); 및 지지부재(60)의 하측에 위치되고, 각각의 가열로(110a, 120a, 130a, 140a, 150a)의 내부에서 지지부재(60)의 위치를 감지하는 센서부(310)를 포함하는 것을 특징으로 한다. |
