发明名称 |
具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置 |
摘要 |
在一种实施方式中,等离子体处理装置可以包含等离子体处理室、等离子体区、能量源和耐腐蚀部件。该等离子体处理室可以保持在真空压强下,并可以约束等离子体处理气体。该能量源可以向该等离子体处理室中传送能量,并在该等离子体区内将该等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体。该耐腐蚀部件可以位于该等离子体处理室内。该耐腐蚀部件可以暴露于该等离子体处理气体,并与该等离子体区不重合。该耐腐蚀部件可以包括涂覆有钽(Ta)外层的不锈钢内层。 |
申请公布号 |
CN103177926B |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201210560158.5 |
申请日期 |
2012.12.20 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
石洪;许林;拉金德·丁德萨;约翰·多尔蒂;方言;李斯文 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海胜康律师事务所 31263 |
代理人 |
李献忠 |
主权项 |
一种能操作成处理衬底的等离子体处理装置,所述等离子体处理装置包含等离子体处理室、气体分配构件、能操作成在处理期间在其上支撑衬底的衬底支撑构件、等离子体区、能量源、和耐腐蚀部件,其中:所述等离子体处理室能操作成在处理衬底期间保持在真空压强下,并在其内约束等离子体处理气体;所述气体分配构件和所述衬底支撑构件被设置在所述等离子体处理室内;所述气体分配构件能操作成在处理衬底期间将所述等离子体处理气体排放在所述等离子体处理室中;所述气体分配构件和所述衬底支撑构件通过所述等离子体区彼此分开;所述能量源与所述气体分配构件、所述衬底支撑构件、或两者电气连通;所述能量源能操作成在处理衬底期间向所述等离子体处理室中传送能量,并在所述等离子体区内将所述等离子体处理气体中的至少一部分转变成等离子体;所述耐腐蚀部件位于所述等离子体处理室内;所述耐腐蚀部件在处理衬底期间暴露于所述等离子体处理气体,并与所述等离子体区不重合;所述耐腐蚀部件包括涂覆有钽(Ta)外层的不锈钢内层;所述钽(Ta)外层包括至少97wt%的钽(Ta);以及所述钽(Ta)外层具有小于5%的孔隙率。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |