| 发明名称 | 气体阻隔性膜 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供保存稳定性、特别是严酷的条件(高温高湿条件)下的保存稳定性优异的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其含有基材和具有由下述化学式(1)所示的化学组成、且满足下述数学式1及数学式2的关系的含硅膜。SiOxNyMz···(1)0.001≤Y/(X+Y)≤0.25···数学式13.30≤3Y+2X≤4.80···数学式2所述化学式(1)中，M表示选自由长式元素周期表的第2～第14族的元素组成的组中的至少一种(但不包括硅及碳)，z为0.01～0.3，所述数学式1及数学式2中，X＝x/(1+(az/4))、Y＝y/(1+(az/4))(其中，a为元素M的价数。)。 | ||
| 申请公布号 | CN104903090B | 申请公布日期 | 2016.12.07 |
| 申请号 | CN201480004340.X | 申请日期 | 2014.01.09 |
| 申请人 | 柯尼卡美能达株式会社 | 发明人 | 室田和敏 |
| 分类号 | B32B9/00(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/02(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I | 主分类号 | B32B9/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 贾成功 |
| 主权项 | 一种气体阻隔性膜，其含有：基材；和具有由下述化学式(1)所示的化学组成、且满足下述数学式1及下述数学式2的关系的含硅膜，SiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub>M<sub>z</sub>…(1)0.001≤Y/(X+Y)≤0.25…数学式13.30≤3Y+2X≤4.80…数学式2所述化学式(1)中，M表示选自由长式元素周期表的第2～第14族的元素组成的组中的至少一种，但不包括硅及碳；x为氧相对于硅的原子比，y为氮相对于硅的原子比，z为M相对于硅的原子比，x为1.1～3.1，y为0.001～0.51，且z为0.01～0.3，所述数学式1及所述数学式2中，X＝x/(1+(az/4))、Y＝y/(1+(az/4))，其中，a为元素M的价数。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||